Correction: Fabrication of poly-crystalline Si-based Mie resonators via amorphous Si on SiO2 dewetting

Meher Naffouti; Thomas David; Abdelmalek Benkouider; Luc Favre; Antoine Ronda; Isabelle Berbezier; Sebastien Bidault; Nicolas Bonod; Marco Abbarchi

doi:10.1039/c6nr90067d

Correction: Fabrication of poly-crystalline Si-based Mie resonators via amorphous Si on SiO2 dewetting

Nanoscale. 2016 Apr 14;8(14):7768. doi: 10.1039/c6nr90067d.

Authors

Meher Naffouti¹, Thomas David², Abdelmalek Benkouider², Luc Favre², Antoine Ronda², Isabelle Berbezier², Sebastien Bidault³, Nicolas Bonod⁴, Marco Abbarchi²

Affiliations

¹ CNRS, Aix-Marseille Université, Centrale Marseille, IM2NP, UMR 7334, Campus de St. Jérôme, 13397 Marseille, France. marco.abbarchi@im2np.fr and Laboratoire de Micro-Optoélectroniques et Nanostructures, Faculté des Sciences de Monastir, Université de Monastir, Monastir 5019, Tunisia.
² CNRS, Aix-Marseille Université, Centrale Marseille, IM2NP, UMR 7334, Campus de St. Jérôme, 13397 Marseille, France. marco.abbarchi@im2np.fr.
³ ESPCI ParisTech, PSL Research University, CNRS, 1 rue Jussieu, F-75005 Paris, France.
⁴ CNRS, Aix-Marseille Université, Centrale Marseille, Institut Fresnel, UMR 7249, Campus de St. Jérôme, 13397 Marseille, France.

PMID: 26991596
DOI: 10.1039/c6nr90067d

Abstract

Correction for 'Fabrication of poly-crystalline Si-based Mie resonators via amorphous Si on SiO2 dewetting' by Meher Naffouti, et al., Nanoscale, 2016, 8, 2844-2849.

Publication types

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